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4インチシリコンウェハ 研究用 [N(100) 低抵抗(≦0.02Ω)] 片面ミラーDF品 10枚 1箱(10枚入) [15893481]
4インチシリコンウェハ 研究用 [N(100) 低抵抗(≦0.02Ω)] 片面ミラーDF品 10枚 1箱(10枚入)
[15893481]
販売価格: 120,580円(税込)
在庫数 18枚
商品詳細
●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
●サイズ:4インチシリコンウェハ
●直径(mm):100.0±0.2
●ウェハー厚(μm):525±25
●製造方法:CZ法
●導電型:N型
●面方位:100
●OF方位:110
●抵抗値(Ω・cm):≦0.02
●OF長(mm):32.5±2.5
●面状態:ミラー/エッチド
●パーティクル:≧0.3μm ≦20個
●TTV(μm):≦25
●数量:10枚
●※特注対応品:
●▼方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。
●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
●サイズ:4インチシリコンウェハ
●直径(mm):100.0±0.2
●ウェハー厚(μm):525±25
●製造方法:CZ法
●導電型:N型
●面方位:100
●OF方位:110
●抵抗値(Ω・cm):≦0.02
●OF長(mm):32.5±2.5
●面状態:ミラー/エッチド
●パーティクル:≧0.3μm ≦20個
●TTV(μm):≦25
●数量:10枚
●※特注対応品:
●▼方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。
●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
4インチシリコンウェハ 研究用 [N(100) 低抵抗(≦0.02Ω)] 片面ミラーDF品 10枚 1箱(10枚入)
【在庫数について】
商品ページに表示されている在庫数は通販サイト上の在庫数となります。各店舗の在庫数とは異なりますのでご注意ください。